硅片清洗用水生產(chǎn)少不了超純水設(shè)備

　　半導(dǎo)體材料和設(shè)備作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游的產(chǎn)業(yè)，屬于芯片制造和封裝測(cè)試的支撐產(chǎn)業(yè)，因此常被稱為整個(gè)行業(yè)的“賣鏟人”。作為半導(dǎo)體材料的大宗產(chǎn)品，90%以上的半導(dǎo)體產(chǎn)品由硅片制成，因此市場(chǎng)需求非常大。2021年全球半導(dǎo)體硅芯片出貨面積將達(dá)到142億平方英寸，市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到140億美元。(數(shù)據(jù)來(lái)源：賢集網(wǎng))

　　硅片清洗是生產(chǎn)的重要組成部分。同時(shí)，應(yīng)使用無(wú)雜質(zhì)的超純水進(jìn)行清洗。超純水設(shè)備出口電阻率高，無(wú)雜質(zhì)，無(wú)導(dǎo)電性。在硅片清洗超純水設(shè)備的設(shè)計(jì)中，采用了兩級(jí)反滲透和EDI相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高、運(yùn)行可靠、經(jīng)濟(jì)合理的特點(diǎn)。與傳統(tǒng)方法相比，該工藝具有以下優(yōu)點(diǎn)：

　　1、再生不需要再生化學(xué)品。EDI超純水設(shè)備在運(yùn)行過(guò)程中不需要添加任何化學(xué)品，降低了系統(tǒng)運(yùn)行成本。

　　2、不需要中和劑。EDI超純水設(shè)備運(yùn)行期間，不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液，因此不需要酸堿中和槽。通常，EDI超純水設(shè)備產(chǎn)生的濃縮水可以完全回收。

　　3、整個(gè)系統(tǒng)的運(yùn)行成本低。EDI超純水設(shè)備主要消耗電力來(lái)維持系統(tǒng)運(yùn)行，其功耗低于傳統(tǒng)的混床工藝。

　　4、水資源利用率高。與混床工藝相比，EDI超純水設(shè)備的利用率可達(dá)95~99%，有效提高了水資源的利用率。

　　5、EDI超純水設(shè)備無(wú)需更換樹(shù)脂即可連續(xù)工作，無(wú)需人工操作，自動(dòng)化性能強(qiáng)。

　　6、EDI超純水設(shè)備設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，安裝方便。

　　隨著國(guó)家政策支持力度的不斷加大，硅片行業(yè)對(duì)超純水的需求也在不斷增加。萊特萊德超純水設(shè)備出水電導(dǎo)率高達(dá)18MΩ·CM(25℃)。我們的目標(biāo)是為用戶提供高品質(zhì)的超純水設(shè)備和實(shí)用解決方案。