EDI超純水設備滿足芯片生產(chǎn)用水的需求

　　芯片作為一種高精度的電子元件，具有集成度高、生產(chǎn)線窄、水質(zhì)要求高的特點。傳統(tǒng)的超純水制備工藝通常采用離子交換樹脂，需要樹脂再生，既消耗材料資源又消耗勞動力。經(jīng)過多年實踐，結(jié)合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置和混合床模塊化設計工藝制備超純水，出水電阻率可達到18mΩ*cm(25℃)，滿足芯片制造用水要求，為芯片成品質(zhì)量提供有力保證。

　　芯片超純水設備幾乎可以完全去除水中的導電介質(zhì)，并在很低程度上去除水中未分離的膠體物質(zhì)、氣體和有機物。在制備超純水的過程中，無需酸堿再生，去除有害物質(zhì)，減少繁瑣的工藝程序，穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)18.2mΩ·CM超純水，滿足芯片生產(chǎn)用水的需要。

　　超純水設備配備專業(yè)的濃水置換技術，可有效防止膜系統(tǒng)被微生物污染。通過完善的技術提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行成本。萊特萊德專注于電子超純水領域，是一家集研發(fā)設計、設備制造、工程施工、運行維護為一體的環(huán)保解決方案服務提供商。除芯片行業(yè)外，該設備還廣泛應用于電力、造紙、日?；さ阮I域。