硬核科普!芯片生產(chǎn)背后的大功臣居然有它?

　　一場缺芯風波讓全球各國意識到掌握芯片產(chǎn)能的重要性，以前對半導體制造業(yè)沒有太大的重視，而這幾年美國，日本等國家相繼加快芯片制造業(yè)的發(fā)展，重中之重就是建設(shè)芯片工廠。中國近年來在基礎(chǔ)芯片上的發(fā)展速度極快，基本上已能夠達到自給自足的標準。同時，據(jù)數(shù)據(jù)顯示，中國預計在2020年至2024年期間建造31家大型芯片制造工廠，遠超過同期美國的12家。

　　芯片技術(shù)是為了探索新興領(lǐng)域和未知世界，為了給世界各國民眾帶來更舒適、更便捷的生活。一顆芯片在制造過程中，需要通過光刻機完成光刻作業(yè)，在涂抹光刻膠的晶圓上，以類似照相機曝光的原理，把芯片線路圖進行復刻。其實，在芯片生產(chǎn)中除了以上提到的關(guān)鍵設(shè)備，還有重要的一個設(shè)備，就是超純水設(shè)備。光刻機在芯片制造中功不可沒，但是超純水設(shè)備也是芯片生產(chǎn)背后的大功臣。

　　為什么超純水設(shè)備在芯片生產(chǎn)中如此重要?

　　當半導體廠家生產(chǎn)和清洗半導體、芯片、電子產(chǎn)品的時候，都需要使用到電阻率為18兆歐以上的超純水，這樣的超純水幾乎不導電，不會影響電子產(chǎn)品的性能，同時水中幾乎不含金屬離子，不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。為此超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子半導體企業(yè)的基礎(chǔ)配置設(shè)施。

　　可以說，芯片行業(yè)用水的合格與否是產(chǎn)品能否以質(zhì)量取勝的關(guān)鍵，芯片超純水設(shè)備可以為芯片行業(yè)提供高質(zhì)量的超純水支持。

　　萊特萊德超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透、EDI裝置結(jié)合混床模塊化設(shè)計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環(huán)保、經(jīng)濟、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢，為芯片提供了有效的產(chǎn)品質(zhì)量保證。