“雙循環(huán)”背景下 超純水設(shè)備提供行業(yè)發(fā)展“芯”動(dòng)力

　　根據(jù)《中共中央關(guān)于制定國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展第十四個(gè)五年規(guī)劃和二〇三五年遠(yuǎn)景目標(biāo)的建議》，中國(guó)應(yīng)加快建設(shè)以國(guó)內(nèi)大循環(huán)為主體、國(guó)內(nèi)外雙循環(huán)相互促進(jìn)的新發(fā)展模式，促進(jìn)國(guó)家治理體系和治理能力現(xiàn)代化，實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)穩(wěn)定、社會(huì)穩(wěn)定和諧，為全面建設(shè)社會(huì)主義現(xiàn)代化國(guó)家開(kāi)辟良好的開(kāi)端。

　　芯片生產(chǎn)所需的硅片在使用前必須徹底清洗。一塊8英寸的硅片可以生產(chǎn)大約100塊芯片，需要2000加侖的超純水才能達(dá)到所需的純度。芯片設(shè)備和材料國(guó)際公司估計(jì)，2007年生產(chǎn)了1730萬(wàn)英寸的硅片，消耗的超純水足以填滿(mǎn)50萬(wàn)個(gè)奧運(yùn)游泳池，這也從另一個(gè)方向反映出了芯片行業(yè)對(duì)于超純水的需求量巨大。

　　萊特萊德超純水設(shè)備采用反滲透工藝，或是采用反滲透后面再經(jīng)過(guò)離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床來(lái)制取超純水，確保出水水質(zhì)符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿(mǎn)足芯片行業(yè)的水需求，為行業(yè)提供動(dòng)力。

　　從發(fā)展前景來(lái)看，芯片產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀不言而喻。在“雙循環(huán)”的背景下，國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展并不能完全滿(mǎn)足日益增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求。未來(lái)，隨著優(yōu)惠政策和生產(chǎn)技術(shù)的改進(jìn)，原材料和設(shè)備的自給自足率將繼續(xù)提高。與此同時(shí)，全球芯片產(chǎn)業(yè)將像國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移一樣促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展。我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)前景廣闊，市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。