超純水設備“加持”芯片產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)快速發(fā)展

　　當前半導體產(chǎn)業(yè)正在面臨著兩大矛盾，第一是全球范圍內，“砍單”和“缺芯”的現(xiàn)象同時存在，這是由消費級電子產(chǎn)品的市場疲軟、與新能源汽車賽道的高景氣所決定的，更多的是結構調整;第二是國內半導體產(chǎn)業(yè)在更宏大的“國產(chǎn)替代”背景下，碰到了一些短期內的成長陣痛。

　　對中國的半導體企業(yè)來說，在新能源汽車產(chǎn)業(yè)這波時代際遇下，成為芯片國產(chǎn)替代的參與者和推動者，這是不會改變的大方向，但問題在于，要實現(xiàn)芯片的國產(chǎn)替代并非易事，制程、摩爾定律、技術積淀等等，都是需要直面的挑戰(zhàn)。

　　權威機構數(shù)據(jù)顯示，2021年，中國大陸制造的芯片價值為312億美元，消費了1865億美元，占比只有16.7%。這312億美元里，總部在大陸的公司貢獻了123億美元，按這個數(shù)據(jù)算，純粹大陸公司制造的芯片占消費比例是6.6%。總體來說，現(xiàn)在芯片的現(xiàn)狀是——發(fā)展非常迅速，產(chǎn)品落后兩代，技術受制于人，未來充滿未知。

　　眾所周知，制造高質量的芯片需要光刻機，除此之外，還有一個重要的設備，就是超純水設備。為什么這么說呢?

　　芯片生產(chǎn)需要大量用超純水來進行清洗，用普通的水是完全達不到效果的，會影響芯片的良品率。也就是說，在技術上除了光刻機之外，還需要超純水的加持。

　　萊特萊德生產(chǎn)EDI超純水設備多年，具備豐富的行業(yè)經(jīng)驗和半導體工藝，能夠為芯片生產(chǎn)制造提供優(yōu)質的水質環(huán)境。EDI超純水設備采用膜分離技術與EDI連續(xù)電解除鹽技術，全程自動化操作節(jié)省人力，出水水質能夠穩(wěn)定達標，水質標準能夠達到18兆歐，滿足了芯片生產(chǎn)用水需要。