超純水設備助力芯片生產，滿足行業(yè)用水需求

　　由于晶圓生產耗水量巨大,所以晶圓制造較為集中的城市必定遍布長江、太湖和運河水系。一個生產40K晶圓的大型工廠,每天投產用水高達1.82萬噸,接近一個6萬人口的小型城鎮(zhèn)一天用水量。

　　在晶圓生產過程中所需的零配件上會殘存細微分子,需要成噸的超純水反復清洗,整個清洗循環(huán)過程約占芯片制造整體工序步驟的30%以上,是芯片制造工藝步驟占比最大的工序。如果清潔參數無法達標,遺留的超微細顆粒污染物、金屬殘留、有機物、光阻掩膜等將成為污染源,邁入高階制程后,易導致后續(xù)工藝失敗、電學失效,最終造成芯片報廢,直接拉低整條生產線的良品率,給廠商造成巨額的經濟損失。

　　對于半導體產業(yè)而言,超純水的純度是確保高效生產的基石之一,工藝的穩(wěn)定性直接影響產品的質量和生產效率,與產品良品率及經濟效益密切關聯,更是下游客戶選擇合作方的關鍵指標。

　　高度提純的超純水幾乎不導電,不會影響電子產品的性能,同時水中不含金屬離子,也可避免對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。假若因為超純水純度不達標,在晶圓制造環(huán)節(jié)中有污染物未能完全清除,輕則影響晶圓良品率,重則導致成批晶圓報廢。

　　萊特萊德專注于超純水生產工藝多年，超純水設備憑借顯著優(yōu)勢在芯片生產中應用廣泛。超純水設備結合反滲透膜分離技術和EDI技術制備超純水。與傳統(tǒng)工藝相比，該工藝運行成本低且運行可靠，整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。膜組件為復合膜卷制而成，具有較高的溶質分離率和透過率。能耗低、水利用率高、運行成本低。

　　萊特萊德超純水設備采用預處理、反滲透技術、EDI技術和后處理方法，幾乎完全去除水中的導電介質，去除非游離膠體物質，水中的氣體和有機物含量很低。萊特萊德超純水設備具有出水連續(xù)、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便等優(yōu)點。出水水質符合半導體行業(yè)相關標準。

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　　編輯：柒柒 技術：木子