超純水——沒(méi)有它，有光刻機(jī)也造不出芯片

　　你可能不知道，芯片是洗澡洗出來(lái)的。在芯片制作的過(guò)程中，光刻機(jī)是非常重要的一個(gè)設(shè)備，沒(méi)有光刻機(jī)將無(wú)法正常生產(chǎn)芯片，而光刻機(jī)在全球都是壟斷地位的。雖然光刻機(jī)如此重要，但是，沒(méi)有它也造不出芯片。

　　芯片的制造條件十分苛刻，芯片制造有上千道工序，即使保證每道工序的良品率是99%，那么在上千道工序的累計(jì)下，芯片的總良品率一定會(huì)慘不忍睹。所以，在芯片制造的過(guò)程中，有30%的時(shí)間都在做一件事情，就是“洗澡”，專(zhuān)業(yè)名詞叫濕法清洗。

　　當(dāng)然，給芯片清洗的水不能是自來(lái)水，因?yàn)樽詠?lái)水里的金屬離子會(huì)影響硅片的閾值電壓，溶解氣體會(huì)干擾硅片的氧化覆膜，細(xì)菌有機(jī)物會(huì)導(dǎo)致硅片短路漏電。因此，需要用超純水對(duì)芯片進(jìn)行清洗。

　　清洗步驟貫穿芯片制造過(guò)程中的許多工藝環(huán)節(jié)。清潔技術(shù)將持續(xù)到芯片開(kāi)發(fā)完成為止。早在20世紀(jì)50年代，半導(dǎo)體制造業(yè)就開(kāi)始關(guān)注清洗技術(shù)，其重要性將越來(lái)越高，市場(chǎng)需求將越來(lái)越大。隨著工藝技術(shù)的進(jìn)步，光刻和各種工藝的數(shù)量激增，清洗步驟的數(shù)量也增加了。根據(jù)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，80nm～60nm工藝清洗步驟約100個(gè)，20nm～10nm工藝清洗步驟200多個(gè)。由此可見(jiàn)，超純水對(duì)芯片來(lái)說(shuō)是多么重要。

　　全自動(dòng)雙級(jí)反滲透+EDI超純水系統(tǒng)+拋光混床是目前常用的超純水處理技術(shù)，EDI超純水系統(tǒng)是超純水生產(chǎn)設(shè)備的重要組成部分。到目前為止，一些廠家仍然使用混床生產(chǎn)超純水?；齑渤兯到y(tǒng)優(yōu)點(diǎn)是前期投資少。但是，EDI超純水系統(tǒng)的突出性能優(yōu)勢(shì)是無(wú)法替代的。與混床相比，在相同流量處理能力的情況下，EDI超純水系統(tǒng)占地面積要小得多，約為混床的1/10。這種對(duì)用戶友好的設(shè)計(jì)是通過(guò)消除巨大的再生存儲(chǔ)和廢水中和系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。